Plasma reactor with a ceiling electrode supply conduit having a succession of voltage drop elements
ÇUVALCI O.
Patent, BÖLÜM F Makine Mühendisliği; Aydınlatma; Isıtma; Silahlar; Tahrip Malzemeleri, 2015
-
Fikri Mülkiyet:
Patent
-
Başvuru Yapılan Ülke/Kuruluş:
Amerika Birleşik Devletleri
-
Başvuru Tarihi:
1.12.2015