Plasma reactor with a ceiling electrode supply conduit having a succession of voltage drop elements
Patent, BÖLÜM F Makine Mühendisliği; Aydınlatma; Isıtma; Silahlar; Tahrip Malzemeleri, 2015
- Fikri Mülkiyet: Patent
- Başvuru Yapılan Ülke/Kuruluş: Amerika Birleşik Devletleri
- Başvuru Tarihi: 1.12.2015