Yüksek Fotokatalitik Etkiye Sahip Titanyum Dioksit Tabanlı Nikel (II) Ftalosiyanin Nanopartikülü
Patent, BÖLÜM C Kimya; Metalürji, Buluşun Tescil No: 2024018449 , Standart Tescil, 2025, Tescil Edildi
- Fikri Mülkiyet: Patent
- Başvuru Yapılan Ülke/Kuruluş: Türkiye
- Buluşun Durumu: Tescil Edildi
- Başvuru Tarihi: 11.12.2024
- Tescil Tarihi: 21.03.2025