Influence of Thermal Treatment Parameters on the Structural and Electrical Behavior of Si-Based MOS Capacitors with ZrO₂ Gate Dielectric

Akdağ A. A., Bolat S., Terzioğlu C., Kaya Ş.

6th International Engineering Research Symposium, Düzce, Türkiye, 7 - 09 Mayıs 2026, ss.106, (Özet Bildiri)

  • Yayın Türü: Bildiri / Özet Bildiri
  • Basıldığı Şehir: Düzce
  • Basıldığı Ülke: Türkiye
  • Sayfa Sayıları: ss.106
  • Karadeniz Teknik Üniversitesi Adresli: Evet