Influence of Thermal Treatment Parameters on the Structural and Electrical Behavior of Si-Based MOS Capacitors with ZrO₂ Gate Dielectric

AKDAĞ A. A., TERZİOĞLU C., KAYA Ş.

6th International Engineering Research Symposium, Düzce, Türkiye, 7 - 09 Mayıs 2026, ss.106, (Özet Bildiri)

• Yayın Türü: Bildiri / Özet Bildiri
• Basıldığı Şehir: Düzce
• Basıldığı Ülke: Türkiye
• Sayfa Sayıları: ss.106
• Karadeniz Teknik Üniversitesi Adresli: Evet