Comparative Study on the Impact of Stacking Order of Precursor Layer Films by Exposing the Precursors Layers to the Sulfur Vapor at Low Temperature

OLĞAR M. A., SEYHAN A., TOMAKİN M., KÜÇÜKÖMEROĞLU T., BACAKSIZ E.

5th International Conference on Materials Science and Nanotechnology for Next Generation (MSNG-2018), 4 - 06 Ekim 2018, ss.83-87

  • Yayın Türü: Bildiri / Tam Metin Bildiri
  • Sayfa Sayıları: ss.83-87
  • Karadeniz Teknik Üniversitesi Adresli: Evet