Effect of low molarity HfO2 thin films on the reflectance properties of polished silicon substrate

Kanmaz I., Güzeldir B., Üzüm A.

1. Uluslararası Palandöken Bilimsel Çalışmalar Kongresi, 24 - 25 Kasım 2020, ss.95

  • Yayın Türü: Bildiri / Özet Bildiri
  • Sayfa Sayıları: ss.95
  • Karadeniz Teknik Üniversitesi Adresli: Evet